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    • 本

    超並列電子ビーム描画装置の開発　集積回路のディジタルファブリケーションを目指して

    出版社名 東北大学出版会
    出版年月 2018年6月
    ISBNコード 978-4-86163-296-9
    （4-86163-296-X）
    税込価格 3,300円
    頁数・縦 ２２８Ｐ　２１ｃｍ

    商品内容

    目次

    第１章　マスクレス露光と電子ビーム描画・転写（マスクレス露光（描画）
    各種電子ビーム描画・転写）
    第２章　並列電子ビーム描画の課題（電子ビーム制御
    電子ビームの集束と電子レンズ　ほか）
    第３章　並列電子ビーム描画装置用電子源（研究されてきた各種電子源
    ナノクリスタルシリコン（ｎｃ‐Ｓｉ）電子源）
    第４章　超並列電子ビーム描画（ＭＰＥＢＷ）（システム構成
    電子源アレイ　ほか）
    第５章　応用と今後の課題（デバイス大量生産への応用
    マルチビーム技術の直接描画への応用　ほか）

    著者紹介

    江刺　正喜 (エサシ　マサヨシ)　　
    １９７１年東北大学工学部電子工学科卒。１９７６年同大学院博士課程修了。同年より東北大学工学部助手、１９８１年助教授、１９９０年より教授となり現在（東北大学マイクロシステム融合研究開発センター（μＳＩＣ））に至る。半導体センサ、マイクロシステム、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ　Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ　Ｓｙｓｔｅｍｓ）の研究に従事
    宮口　裕 (ミヤグチ　ヒロシ)　　
    １９７９年慶應義塾大学工学研究科電気工学専攻修士課程修了。同年、（株）東芝に入社し、ビデオ機器および関連ＬＳＩの開発。１９８７年日本テキサスインスツルメンツ（株）に入社し、ビデオ信号処理ＤＳＰとそのアプリケーションの開発。２０１１年東北大学マイクロシステム融合研究開発センターにて触覚センサーシステムならびに超並列電子線直接描画装置の開発に従事。２０１７年より東北大学革新的イノベーション研究機構に勤務
    小島　明 (コジマ　アキラ)　　
    ２００３年東京農工大学工学研究科にて博士（工学）取得。２００７年より２０１３年まで（株）クレステックにて、ナノ結晶シリコン電子源を応用した面電子線露光の研究開発。２０１４年より東北大学マイクロシステム融合研究開発センターにて超並列電子線直接描画装置の開発。２０１７年より（株）カンタム１４に勤務
    池上　尚克 (イケガミ　ナオカツ)　　
    １９８４年慶応義塾大学工学部電気工学科卒業。１９９８年同大学大学院理工学研究科より博士（工学）。１９８４年～２００９年沖電気工業（株）にてＤＲＡＭ、完全空乏型ＳＯＩデバイス対応プラズマエッチングプロセスの研究開発、量産立ち上げ、および多軸ＭＥＭＳ加速度＋ジャイロセンサの研究開発とその海外市場開拓等に従事。東北大学、東京農工大学を経て２０１４年東北大学マイクロシステム融合研究開発センターで超並列電子線描画装置の開発に従事。２０１７年よりＧｏｅｒｔｅｋ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　Ｊａｐａｎ（株）に勤務
    越田　信義 (コシダ　ノブヨシ)　　
    １９６６年東北大学工学部電子工学科卒。１９７３年同大学院博士課程修了（工学博士）。日産自動車（株）中央研究所を経て、１９８１年東京農工大学助教授、１９８８年同教授、２００９年同特任教授・名誉教授。この間、米ＭＩＴ客員研究員（１９９２‐１９９３）、仏Ｊ．フーリエグルノーブル大学招聘客員教授（１９９６）、（株）カンタム１４ＣＴＯ（２００３～）。ナノ構造シリコンなどの光電子材料・デバイスに関する研究に従事。米Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｓｏｃｉｅｔｙフェロー（２００６）、応用物理学会フェロー（２００７）（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）