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ナノインプリントの開発と応用

エレクトロニクス材料・技術シリーズ

出版社名 シーエムシー出版
出版年月 2005年8月
ISBNコード 978-4-88231-525-4
4-88231-525-4
税込価格 71,500円
頁数・縦 213P 27cm

商品内容

目次

第1章 総説(転写方式
周辺技術 ほか)
第2章 転写方式(熱ナノインプリントの基礎とそのシーズ
室温ナノインプリント技術 ほか)
第3章 装置と関連部材(ナノインプリント装置
モールド ほか)
第4章 デバイス応用(電子・磁気・光学デバイス
光デバイス ほか)

出版社・メーカーコメント

▼内容:総説,転写方式(熱・室温・光ナノインプリント,ソフトリソグラフィ,ナノキャスティング法),ナノインプリント装置,モールド,離型剤/電子・磁気・光学・バイオ分野,マイクロ流体デバイスへの応用展開

著者紹介

松井 真二 (マツイ シンジ)  
兵庫県立大学高度産業科学技術研究所教授
古室 昌徳 (コムロ マサノリ)  
(独)産業技術総合研究所つくばセンター次長(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)