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マイクロ・ナノデバイスのエッチング技術

新材料・新素材シリーズ

出版社名 シーエムシー出版
出版年月 2009年10月
ISBNコード 978-4-7813-0167-9
4-7813-0167-3
税込価格 71,500円
頁数・縦 301P 27cm
シリーズ名 マイクロ・ナノデバイスのエッチング技術

商品内容

目次

ウエットエッチング編(ウエットエッチングの基礎
シリコン結晶異方性エッチングの基礎
エッチピットおよびマイクロピラミッド発生メカニズム ほか)
ドライエッチング編(ドライエッチングの基礎と各種パラメータの最適化
プラズマエッチングにおける表面反応機構
シリコン深堀エッチング ほか)
エッチング技術の高機能化編(ウエハ回転方式によるシリコンエッチングの高精度均一化
電圧印加による等方性および異方性の制御
多段異方性エッチングによるエッチング形状の複雑化 ほか)

出版社・メーカーコメント

★ コスト面や生産性で優れるウエット,微細化に優れるドライ,そしてそれらの応用展開から構成される本書は,研究開発から生産現場まで広い範囲でお役に立てます!★ 太陽電池におけるテクスチャー形成,3次元実装におけるTSV(シリコン貫通ビア)形成など,最新のエッチング技術を掲載!★ 予想通りにエッチングができずにお困りなら,是非とも本書をご参考下さい!マイクロナノ領域におけるモノづくりは付加加工,除去加工とから成る。付加加工では,蒸着,スパッタ,CVDなどの薄膜形成技術が,除去加工では,イオンビーム,エッチング